產品介紹

WKWY-300彩色紋影儀是利用光在被測流場中的折射率梯度正比于流場的氣流密度的原理，將流場中密度梯度的變化轉變為記錄平面上相對光強的變化，使可壓縮流場中的激波、壓縮波等密度變化劇烈可用來觀察透明介質因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質作用、分層流、多項流、傳熱與傳質、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。

紋(wen)(wen)影儀可用來觀察透明介質(zhi)(zhi)(zhi)因各(ge)種因素引起的(de)(de)擾動的(de)(de)分布、傳(chuan)播過程(cheng)以及(ji)擾動強(qiang)度等。如研(yan)究激(ji)光(guang)與物(wu)質(zhi)(zhi)(zhi)作用、分層流(liu)、多項(xiang)流(liu)、傳(chuan)熱(re)與傳(chuan)質(zhi)(zhi)(zhi)、激(ji)波、超聲速流(liu)、燃(ran)燒、火焰、爆炸(zha)、等離(li)子體、內彈道及(ji)某(mou)些化學(xue)反(fan)應等學(xue)科的(de)(de)流(liu)場密度變化科學(xue)研(yan)究。泰(tai)普勒紋(wen)(wen)影儀是(shi)傳(chuan)統、使用*的(de)(de)一(yi)種。

WKWY-300彩色紋影儀系統主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統、主球面反射鏡裝調機構、刀口成像系統三個部分。其中，光源狹縫系統和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統，刀口成像系統與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統，分別布局于兩個平臺上。

技術參數：

其中(zhong)主反射(she)鏡光學材料：K9光學玻(bo)璃，應力(li)≤2，加工面(mian)型精(jing)度(du)＜1/10λ；反射(she)面(mian)真空(kong)鍍(du)鋁，鍍(du)二氧化硅保(bao)護膜。小反射(she)鏡表面(mian)真空(kong)鍍(du)鋁，鍍(du)二氧化硅保(bao)護膜，反射(she)系數≥90%，面(mian)型精(jing)度(du)＜1/10波長。